La Litografia Ultravioletta Estrema (EUVL) è una tecnologia avanzata per fare microprocessori che sono centinaia di volte più potenti dei processori di oggi. Intel, AMD e Motorola hanno collaborato con il Dipartimento dell'Energia degli Stati Uniti in un progetto triennale per sviluppare un microchip con una maschera larga meno di 0,1 micron. (I circuiti di oggi sono tipicamente larghi 0,18 micron o più). Un microprocessore che utilizza la tecnologia EUVL sarebbe centinaia di volte più potente di un computer oggi. I chip di memoria potrebbero immagazzinare 1000 volte più informazioni di oggi.
EUVL è una tecnologia che si presta a sostituire la litografia ottica, che è usata per fare i microcircuiti di oggi. Funziona bruciando forti fasci di luce ultravioletta, che riflettono il modello del layout del circuito, in un wafer di silicio. EUVL è simile alla litografia ottica, in cui la luce viene deviata sul wafer attraverso lenti di telecamere. Tuttavia, la luce ultravioletta estrema, che opera ad una lunghezza d'onda diversa, ha proprietà diverse e deve essere riflessa attraverso specchi invece di essere deviata da una lente. La sfida è costruire uno specchio abbastanza perfetto da riflettere la luce con sufficiente precisione. Intel sta lavorando sui primi prototipi. Nel frattempo, la litografia ottica continuerà a progredire nei prossimi anni finché non sarà sostituita da tecnologie più recenti come EUVL.